技术资源_泰思曼高压电源

静电卡盘高压电源抗电弧设计的核心技术剖析

一、电弧产生机理与危害在半导体工艺中，静电卡盘（ESC）通过高压电源（典型参数：±5kV 10mA）产生静电场吸附晶圆。然而，在真空或

电镜成像质量直接依赖于高压电源的稳定性。当束流电压波动超过±0 01%时，可能导致图像分辨率显著下降。因此，高精度反馈调节系统成

一、技术背景与意义蚀刻设备在半导体、微电子及材料加工领域应用广泛，但其高压电源系统能耗巨大。传统蚀刻过程中，约60%的能量转化为废热

一、高重复频率下的技术挑战准分子激光器（如ArF、KrF等）在半导体光刻、精密微加工等领域需实现kHz级高重复频率运行（通常达4–6kHz

• 高压电源设计挑战：分析静电卡盘电源系统的核心需求，包括电压稳定性、快速响应和故障冗余设计，使用表格对比不同技术方案。•

电子显微镜（电镜）的分辨率直接依赖于高压电源的稳定性。电源噪声会导致电子束轨迹偏移，造成图像模糊、细节丢失甚至数据失真。因此，高压

在半导体制造工艺中，蚀刻设备依赖高压电源（通常达千伏级）驱动等离子体生成，以实现纳米级精度的晶圆蚀刻。然而，高压电源在运行中易因打

1 引言准分子激光器以其短波长（紫外至深紫外波段）、高功率密度和纳秒级脉冲输出能力，在光刻、材料加工、医疗及惯性约束聚变（ICF）等领

光刻机作为半导体制造的核心装备，其精度直接决定芯片的纳米级结构。在光刻工艺中，高压电源为深紫外（DUV）或极紫外（EUV）光源提供驱动能