技术资源_泰思曼高压电源

E-Chuck高压电源抗静电击穿能力的工程优化研究

一、静电击穿机理与失效模式在半导体晶圆加工中，E-Chuck系统需持续施加0 5-10kV偏置电压以产生静电吸附力，其高压电源面临三个层级的击穿

一、系统工作原理与技术特征通道电子倍增器（CEM）作为高能粒子探测的核心器件，其性能直接依赖于高压电源的脉冲输出特性。该系统通过施加1

一、增益稳定性对探测器性能的关键影响微通道板（MCP）探测器的增益（G）与高压电源（HVPS）的电压稳定性呈指数关系：G ∝ V^N（N=8-

一、离子束发散度的物理定义与工业标准离子束发散度（Beam Divergence）表征束流在传输过程中横向速度分量的分布范围，其核心指标为归一化

一、低纹波电源的EMC核心挑战高压电源的电磁兼容（EMC）问题源于功率器件高频开关产生的宽频干扰，其特性与纹波系数（Ripple Factor）强相

一、中子加速器束流稳定的科学意义中子加速器作为核物理研究、放射性同位素生产及癌症硼中子俘获治疗（BNCT）的核心装置，其束流稳定性直接

一、辐照灭菌技术的核心原理与剂量基准辐照灭菌是利用高能射线（γ射线、X射线或电子束）破坏微生物DNA结构以实现无菌化的物理过程。

引言在工业CT成像、航空复合材料探伤及地下管网腐蚀监测领域，高压电源的信号质量直接影响缺陷检测分辨率与误判率。传统检测系统受限于高压

引言在半导体先进制程（3nm以下节点）、量子点阵列制备及新型拓扑材料改性领域，离子注入剂量的空间均匀性与重复精度已进入10^13 ions cm&