技术资源_泰思曼高压电源

离子注入高压电源的智能功率分配技术

1 离子注入工艺对高压电源的核心需求离子注入是半导体制造中的关键工艺，通过将高能离子注入晶圆，改变材料的电学特性。该过程要求高压

引言静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）作为半导体制造中的关键部件，依赖高压电源产生的静电场吸附晶圆。其性能直接影响刻蚀、离子注

在电子显微镜（电镜）等高端科研设备中，高压电源的稳定性直接决定了成像质量与数据精度。传统电源系统受限于响应速度、能量损耗及电压波动

在半导体制造中，等离子体蚀刻设备的稳定性直接决定晶圆加工的精度与良率。蚀刻工艺依赖高频高压电源（通常为13 56MHz 60MHz）激发反应腔体

在准分子激光系统中，高压电源的脉冲串质量直接决定了激光输出的稳定性、效率及应用精度。传统高压电源受限于开关器件的性能，难以同时满足

在半导体制造向更高精度、更大晶圆尺寸演进的过程中，静电卡盘（ESC）作为晶圆固定与温控的核心装置，其性能直接影响刻蚀、薄膜沉积等工艺

电子显微镜（电镜）的分辨率已突破亚纳米级（<0 2纳米），成为材料科学、生命科学等领域解析物质原子结构的关键工具。这一成就的基石是高压

在半导体制造中，等离子体刻蚀是纳米级图形转移的关键工艺，其精度直接决定器件的性能与良率。高压电源作为等离子体的能量来源，通过精准调

准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在半导体光刻、医疗消融等领域不可替代。其高压电源电极在含氟等离子体的高频放电环境中面临严重腐