技术资源_泰思曼高压电源

光刻机高压电源故障快速定位技术研究

光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源系统（输出范围通常达数万至数百万伏特）的稳定性直接影响晶圆曝光精度。该电源长期处于高负载

电子显微镜（电镜）的分辨率与成像质量高度依赖其高压电源的稳定性。外部电磁干扰（EMI）会导致电子束偏转、图像模糊甚至数据失真。因此，

在半导体制造中，等离子体刻蚀工艺的纳米级图形转移精度直接决定器件的性能和良率。高压电源作为等离子体的能量来源，其动态偏置调节能力成

准分子激光器作为深紫外波段的高功率光源，在光刻、微加工等领域具有不可替代的地位。其性能核心依赖于高压电源放电通道的稳定性与效率。放

光刻机作为集成电路制造的核心设备，其曝光精度直接依赖于高压电源的稳定性与纯净度。传统两电平电源方案存在输出电压纹波大、动态响应慢、

1 离子注入工艺的温度敏感性离子注入是半导体制造的核心工艺，通过高能离子束轰击芯片表面形成特定掺杂区域。该过程对温度极为敏感：&bul

等离子体噪声是半导体蚀刻工艺中的核心干扰源，表现为电源输出波动、电磁辐射及异常放电等现象，直接影响蚀刻均匀性、选择比和器件良率。其

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的高功率脉冲光源，在光刻、微加工、医疗等领域具有不可替代的地位。其工作依赖于高压电源产生

光刻机作为半导体制造的核心设备，其曝光精度直接决定芯片的线宽极限。高压电源的纹波性能是影响曝光质量的关键因素——纹波会引入电场扰动