技术资源_泰思曼高压电源

光刻机高压电源的超高频谐振稳压技术

在半导体制造领域，光刻机作为纳米级图案刻蚀的核心设备，其精度直接决定芯片性能与良品率。光刻机的高压电源系统需为激光发生器、离子束控

离子注入技术作为半导体制造的核心工艺，其精度直接影响器件的电学性能和良率。随着半导体器件尺寸进入纳米级，传统高压电源的静态输出模式

静电卡盘作为半导体制造、平板显示等精密设备的核心部件，依赖高压电源（通常为数千伏）产生静电场以吸附晶圆。然而，高压环境下的瞬态电弧

在电子显微镜（EM）技术领域，高压电源的稳定性直接决定了成像质量的上限。现代透射电镜（TEM）的分辨率已突破至亚埃级（0 1 nm），而扫描

在半导体制造中，等离子体蚀刻是决定微观结构精度的核心工艺，其工艺窗口（即允许参数波动的范围）直接影响器件的良率和性能。高压电源作为

1 离子注入工艺对高压电源的核心需求离子注入是半导体制造中的关键工艺，通过将高能离子注入晶圆，改变材料的电学特性。该过程要求高压

引言静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）作为半导体制造中的关键部件，依赖高压电源产生的静电场吸附晶圆。其性能直接影响刻蚀、离子注

在电子显微镜（电镜）等高端科研设备中，高压电源的稳定性直接决定了成像质量与数据精度。传统电源系统受限于响应速度、能量损耗及电压波动

在半导体制造中，等离子体蚀刻设备的稳定性直接决定晶圆加工的精度与良率。蚀刻工艺依赖高频高压电源（通常为13 56MHz 60MHz）激发反应腔体