技术资源_泰思曼高压电源

准分子激光高压电源放电通道优化的关键技术路径

准分子激光器作为深紫外波段的高功率光源，在光刻、微加工等领域具有不可替代的地位。其性能核心依赖于高压电源放电通道的稳定性与效率。放

光刻机作为集成电路制造的核心设备，其曝光精度直接依赖于高压电源的稳定性与纯净度。传统两电平电源方案存在输出电压纹波大、动态响应慢、

1 离子注入工艺的温度敏感性离子注入是半导体制造的核心工艺，通过高能离子束轰击芯片表面形成特定掺杂区域。该过程对温度极为敏感：&bul

等离子体噪声是半导体蚀刻工艺中的核心干扰源，表现为电源输出波动、电磁辐射及异常放电等现象，直接影响蚀刻均匀性、选择比和器件良率。其

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的高功率脉冲光源，在光刻、微加工、医疗等领域具有不可替代的地位。其工作依赖于高压电源产生

光刻机作为半导体制造的核心设备，其曝光精度直接决定芯片的线宽极限。高压电源的纹波性能是影响曝光质量的关键因素——纹波会引入电场扰动

离子注入是半导体制造中的关键工艺，其高压电源的稳定性直接决定注入精度与设备安全。高压电源在工作过程中易受瞬态过压冲击，例如负载突变

静电卡盘作为半导体制造的核心组件，依赖高压电源产生的静电场实现晶圆的非接触式固定。然而，高压电源在动态负载下的高频振荡现象（通常由

高压电源的稳定性直接影响透射电子显微镜（TEM）的成像精度。在纳米级观测中，输出电压的纹波必须控制在毫伏甚至微伏级别，否则会导致电子