技术资源_泰思曼高压电源

高精度蚀刻设备中高压电源的动态功率因数校正技术

在半导体制造领域，蚀刻设备的稳定性和能效直接决定工艺精度与生产成本。高压电源作为蚀刻工艺的核心能源单元，其电能质量直接影响等离子体

一、技术挑战与核心需求准分子激光器（如ArF、KrF）作为深紫外波段的核心光源，在光刻、微纳加工等领域需满足高重频（kHz级）、窄线宽（E95

引言光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源系统为紫外光源（如极紫外光EUV）提供稳定能量。传统高压电源在运行中产生大量谐波，不仅

在半导体制造工艺中，离子注入机的高压电源系统需提供数万至数百万伏特的稳定电压，其可靠性直接决定晶圆掺杂质量。然而，高压电源长期处于

在半导体制造中，等离子体蚀刻是定义纳米级器件的核心工艺，其精度直接影响芯片的性能与良率。高压电源作为蚀刻设备的能量核心，需在复杂多

准分子激光器（如ArF、KrF等）作为深紫外波段的核心光源，在半导体光刻、微加工和医疗领域具有不可替代的地位。其性能直接依赖于高压电源的

光刻机作为半导体制造的核心设备，其高压电源的辐射噪声会干扰精密光学系统和控制电路，导致晶圆曝光缺陷。辐射噪声主要源于开关电源的高频

在半导体制造工艺中，离子注入设备是定义芯片电学特性的核心装备，其高压电源（通常输出达–40 kV、400 W）需维持极高稳定性。然而

静电卡盘（Electrostatic Chuck, ESC）作为半导体制造中的核心部件，其性能依赖于高压电源与介质界面的协同作用。介质界面作为静电场传递