技术资源_泰思曼高压电源

等离子体蚀刻设备中高压电源的动态阻抗匹配技术

在半导体制造中，等离子体蚀刻设备的稳定性直接决定晶圆加工的精度与良率。蚀刻工艺依赖高频高压电源（通常为13 56MHz 60MHz）激发反应腔体

在准分子激光系统中，高压电源的脉冲串质量直接决定了激光输出的稳定性、效率及应用精度。传统高压电源受限于开关器件的性能，难以同时满足

在半导体制造向更高精度、更大晶圆尺寸演进的过程中，静电卡盘（ESC）作为晶圆固定与温控的核心装置，其性能直接影响刻蚀、薄膜沉积等工艺

电子显微镜（电镜）的分辨率已突破亚纳米级（<0 2纳米），成为材料科学、生命科学等领域解析物质原子结构的关键工具。这一成就的基石是高压

在半导体制造中，等离子体刻蚀是纳米级图形转移的关键工艺，其精度直接决定器件的性能与良率。高压电源作为等离子体的能量来源，通过精准调

准分子激光器作为深紫外波段的核心光源，在半导体光刻、医疗消融等领域不可替代。其高压电源电极在含氟等离子体的高频放电环境中面临严重腐

光刻机作为半导体制造的核心装备，其高压电源系统（输出范围通常达数万至数百万伏特）的稳定性直接影响晶圆曝光精度。该电源长期处于高负载

电子显微镜（电镜）的分辨率与成像质量高度依赖其高压电源的稳定性。外部电磁干扰（EMI）会导致电子束偏转、图像模糊甚至数据失真。因此，

在半导体制造中，等离子体刻蚀工艺的纳米级图形转移精度直接决定器件的性能和良率。高压电源作为等离子体的能量来源，其动态偏置调节能力成